，林凡集团，Entegris和三菱化学集团子公司Gelest最近几天宣布达成战略合作，将为全球半导体制造商提供下一代半导体生产所需的林凡突破性EUV干膜光刻胶创新技术的可靠前驱化学品三方将合作研发用于生产未来一代逻辑和DRAM器件的EUV干膜光刻胶技术，这将有助于实现从机器学习和人工智能到移动设备的所有这些技术

工艺化学品的大型供应链对于EUV干膜光致抗蚀剂技术的大规模生产非常重要这一新的长期合作将进一步扩大干膜光致抗蚀剂技术持续发展的生态系统，半导体材料领导者将提供袁爽供应，以确保全球所有市场的持续供应

此外，林凡，Entegris和Gelest将携手合作，加速开发未来高数值孔径EUV图案化的低成本EUV干膜光刻胶解决方案高NA EUV被广泛认为是未来几十年半导体器件持续小型化和发展所需的图案化技术干膜光刻胶可以达到沉积和显影所需的高耐蚀刻性和可调厚度比，以支持高NA EUV减小焦深的要求